Canon najavljuje novi napredni proces izrade čipova

Canon je predstavio novu liniju napredne opreme za izradu čipova koja sadrži tehnologiju nanoimprint litografije (NIL). Tvrtka tvrdi da je novi proces jednostavniji od ekstremne ultraljubičaste litografije (EUV) i može značajno smanjiti potrošnju energije i troškove.

Tvrtka je objasnila tehnologiju u priopćenju rekavši da izvršava prijenos uzorka sklopa i omogućuje uzorke s minimalnom širinom linije od 14 nm, što je ekvivalentno 5 nm-čvoru potrebnom za proizvodnju najnaprednijih dostupnih poluvodiča. Canon je primijetio da se uz daljnja poboljšanja očekuje da će NIL omogućiti izradu uzoraka krugova s minimalnom širinom linije od 10 nm, što odgovara sljedećoj generaciji proizvodnje čvorova od 2 nm.

S litografijom nanootiska, Canon je primijetio da se fini uzorci strujnih krugova mogu točno reproducirati na pločici, omogućujući da se složeni 2D ili 3D uzorci sklopova formiraju u jednom otisku, što može smanjiti trošak vlasništva. Budući da proizvod ne zahtijeva izvor svjetlosti s posebnom valnom duljinom za fine sklopove, može značajno smanjiti potrošnju energije u usporedbi s opremom za fotolitografiju, navodi Canon.